发明名称 基板处理装置及基板承载方法
摘要 本发明的课题为一种基板处理装置,透过可由平台进行升降动作地被配设之顶出销进行被处理基板之承载于平台上,谋求作业时间的缩短化,提高生产效率。;本发明的解决手段为一种基板处理装置(1),包含:承载基板(K)之平台(3);可由形成于平台的贯通孔(33)进行升降动作地被配设,且可藉由尖端部支撑基板之顶出销(41);驱动控制顶出销,俾将藉由基板运送机械手臂供给至平台的上方的搬进位置(P2)的基板承载于平台上之销驱动控制部(43、10),其中销驱动控制部进行驱动控制,俾在藉由使顶出销上升,以其尖端部支撑位于搬进位置的基板,将其保持在比搬进位置高的位置(P3)后,将基板已脱离的机械手驱动于水平方向使其移动至退避位置后,藉由使顶出销下降,以承载于平台上。
申请公布号 TWI465793 申请公布日期 2014.12.21
申请号 TW098125462 申请日期 2009.07.29
申请人 东丽工程股份有限公司 日本 发明人 釜谷学
分类号 G02F1/133;H01L21/683 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 陈志旭 台中市北屯区文心路四段698号21楼之2
主权项 一种基板处理装置,包含:承载基板(K)之平台(3);可由形成于平台(3)的贯通孔(33)进行升降动作地被配设,且可藉由尖端部支撑基板(K)之顶出销(41);驱动控制顶出销(41),俾将藉由基板运送机械手臂供给至平台(3)的上方的搬进位置(P2)的基板(K)承载于平台(3)上之销驱动控制部(43、10),其特征为:销驱动控制部(43、10)进行驱动控制,俾在藉由使顶出销(41)上升,以其尖端部支撑位于搬进位置(P2)的基板(K),将其保持在比搬进位置(P2)高的位置(P3)后,将基板已脱离的机械手驱动于水平方向使其移动至退避位置后,藉由使顶出销(41)下降,以承载于平台(3)上。
地址 日本