发明名称 |
针对改良之离子植入均匀度的离子束扫描系统及方法 |
摘要 |
一种离子植入系统及其扫描系统,其中焦点调整装置系用以动态地调整离子束之焦点性质而补偿扫描器之至少一时变焦点性质。一种用以提供经扫描之离子束至工件之方法,包含动态地调整离子束之焦点性质,扫描该离子束以产生该经扫描之离子束,以导引该经扫描之离子束朝向工件。 |
申请公布号 |
TWI466195 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW094118675 |
申请日期 |
2005.06.07 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 美国 |
发明人 |
安迪 芮;宝 梵德伯格;凯文 温瑟尔 |
分类号 |
H01L21/38 |
主分类号 |
H01L21/38 |
代理机构 |
|
代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种离子植入系统,包含:一离子源,可操作以产生一经抽取之离子束;一质量分析器,接收来自该离子源之该经抽取之离子束及提供一包含所需质量范围之离子的经质量分析之离子束;一焦点调整装置,接收来自该质量分析器沿着一射束路径之该经质量分析的离子束及提供一经焦点调整之离子束沿着该射束路径;一扫描器,接收来自该焦点调整装置之该经焦点调整之离子束及导引一经扫描之离子束朝向工件;以及一平行器,用于将该经扫描之离子束平行朝向该工件,其中该焦点调整装置动态地调整该经焦点调整之离子束之一焦点性质以补偿该扫描器之至少一时变的焦点性质。 |
地址 |
美国 |