发明名称 |
片状凹形通道闸电极及其形成方法 |
摘要 |
兹揭示一种片状凹形通道闸电极,包括基材、闸极介电层、第一导电层与第二导电层。基材具有第一沟渠,闸极介电层位于第一沟渠的表面,而第一导电层嵌入第一沟渠中。第二导电层位于第一导电层上,并与第一导电层在主表面之上对齐,其中第二导电层底部表面积实质上小于第二导电层的顶部表面积。本发明还提供了一个形成片状凹形通道闸电极的方法。 |
申请公布号 |
TWI466295 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW101117575 |
申请日期 |
2012.05.17 |
申请人 |
南亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
发明人 |
吴铁将;陈逸男;刘献文 |
分类号 |
H01L29/78;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
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代理人 |
吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 |
主权项 |
一种形成片状凹形通道闸电极的方法,包括:提供具有一阵列区域和一周边区域的一基材;在该阵列区域中形成一第一沟渠;在该基材上形成一闸极介电层和一第一导电层,而至少填入该第一沟渠中;在该阵列区域的该第一导电层之上形成一第二沟渠,其中该第二沟渠与该第一沟渠对齐;在该第二沟渠的一侧壁上形成一间隙壁;以及在该第二沟渠中形成一第二导电层。 |
地址 |
桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |