发明名称 |
淋浴板及基板处理装置 |
摘要 |
本发明的课题是在于提供一种可为了即使过了使用时间还是能延长淋浴板的寿命而防止异常放电的发生之淋浴板。;基板处理装置(10)系具备:对腔室(11)内的处理空间(S)供给处理气体的淋浴头(30),该淋浴头(30)系具有圆板状的淋浴板(31),该淋浴板(31)系形成于淋浴头(30)内且介于导入处理气体的空间(34)及处理空间(S)之间,且具有使空间(34)及处理空间(S)连通的处理气体供给路径(36),该处理气体供给路径(36)系具有:形成于空间(34)侧的复数的气体穴(40)、及形成于处理空间(S)侧的复数的气体沟(41),复数的气体穴(40)及复数的气体沟(41)系互相连通,全部的气体沟(41)的流路剖面积的合计值系比全部的气体穴(40)的流路剖面积的合计值更大。 |
申请公布号 |
TWI465292 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
申请号 |
TW097143167 |
申请日期 |
2008.11.07 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 日本 |
发明人 |
舆水地盐;传宝一树;持木宏政 |
分类号 |
B05B1/30;B05B1/20;H01L21/3065 |
主分类号 |
B05B1/30 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
一种淋浴板,系配置于基板处理装置的处理室,对该处理室内的处理空间供给处理气体的处理气体供给部所具有的淋浴板,其特征为:形成于上述处理气体供给部内,且介于导入上述处理气体的处理气体导入空间及上述处理空间之间,具有使上述处理气体导入空间及上述处理空间连通的处理气体供给路径,上述处理气体供给路径系具有:形成于上述处理气体导入空间侧的复数的气体穴、及形成于上述处理空间侧的复数的气体沟,上述复数的气体穴及上述复数的气体沟系以使上述复数的气体穴于上述复数的气体沟的底部沿着该气体沟的长度方向来均等地开口而互相连通,上述复数的气体沟的流路剖面积的合计值系上述复数的气体穴的流路剖面积的合计值的1.75倍以上,上述气体沟的深度系比5mm大。 |
地址 |
日本 |