发明名称 电子零件用金属材料及其制造方法、使用其之连接器端子、连接器及电子零件
摘要 本发明提供一种具有低晶须性、低黏着磨耗性及高耐久性之电子零件用金属材料、使用其之连接器端子、连接器及电子零件。本发明之电子零件用金属材料具备:基材;下层,其形成于基材上且由选自由Ni、Cr、Mn、Fe、Co及Cu所组成之群即A构成元素群中之1种或2种以上所构成;中层,其形成于下层上且由选自由Ag、Au、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成之群即B构成元素群中之1种或2种以上、与选自由Sn及In所组成之群即C构成元素群中之1种或2种构成合金;及上层,其形成于中层上且由选自由Sn及In所组成之群即C构成元素群中之1种或2种所构成;并且下层之厚度为0.05μm以上且未达5.00μm,中层之厚度为0.02μm以上且未达0.80μm,上层之厚度为0.005μm以上且未达0.30μm。
申请公布号 TWI465334 申请公布日期 2014.12.21
申请号 TW102122916 申请日期 2013.06.27
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 日本 发明人 涩谷义孝;深町一彦;儿玉笃志
分类号 B32B15/01;C22C13/02;C22C19/03;C22C19/07;C22C22/00;C22C27/06;C22C38/00;C22C5/00;H01B1/02;H01R13/03;H05K1/11 主分类号 B32B15/01
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种电子零件用金属材料,其具有低晶须性、低黏着磨耗性及高耐久性,并且具备:基材;下层,其形成于上述基材上且由选自由Ni、Cr、Mn、Fe、Co及Cu所组成之群即A构成元素群中之1种或2种以上所构成;中层,其形成于上述下层上且由选自由Ag、Au、Pt、Pd、Ru、Rh、Os及Ir所组成之群即B构成元素群中之1种或2种以上、与选自由Sn及In所组成之群即C构成元素群中之1种或2种构成合金;及上层,其形成于上述中层上且由选自由Sn及In所组成之群即C构成元素群中之1种或2种所构成;并且上述下层之厚度为0.05μm以上且未达5.00μm,上述中层之厚度为0.02μm以上且未达0.80μm,上述上层之厚度为0.005μm以上且未达0.30μm。
地址 日本