| 发明名称 |
聚乙烯醇系聚合物薄膜及其制造方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种PVA薄膜及其制造方法，其系极限延伸倍率高、能够以高生产性、良好产率制造之以高倍率单轴延伸也不断裂，光学性能优异的偏光薄膜；本发明提供满足下列式(I)及(II)之PVA薄膜：△n(MD)Ave-0.1×10-3≦△n(TD)Ave≦△n(MD)Ave+0.25×10-3…(I);△n(TD)Ave≦2.5×10-3…(II);[式中，△n(MD)Ave表示PVA薄膜之长度方向之复折射率沿薄膜厚度方向平均化之值、△n(TD)Ave表示PVA薄膜之宽度方向之复折射率沿薄膜厚度方向平均化之值]，并提供该PVA薄膜之制造方法，包含：(a)于具备多数乾燥辊之制膜装置之第1乾燥辊上，吐出含PVA之制膜原液为薄膜状，部分乾燥后以后续的乾燥辊依序乾燥并制造时，(b)使乾燥辊的周速(ST)相对于PVA薄膜之挥发分率成为13质量%时之第1乾燥辊的周速(S1)之比值(ST/S1)为0.990~1.050，(c)使最终乾燥辊的周速(SL)相对于周速(ST)之比值(SL/ST)为0.960~0.980，(d)比值(SL/S1)为0.970~1.010。 |
| 申请公布号 |
TWI465331 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
| 申请号 |
TW101110482 |
申请日期 |
2012.03.27 |
| 申请人 |
可乐丽股份有限公司 日本 |
发明人 |
森保二郎;风藤修;日笠慎太郎;胜野良治 |
| 分类号 |
B29C55/06;C08J5/18;G02B5/30;B29K29/00 |
主分类号 |
B29C55/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼 |
| 主权项 |
一种聚乙烯醇系聚合物薄膜，其特征为：满足下列式(I)及(II)：△n(MD)Ave-0.1×10-3≦△n(TD)Ave≦△n(MD)Ave+0.25×10-3…(I) △n(TD)Ave≦2.5×10-3…(II)[上式中，△n(MD)Ave代表将聚乙烯醇系聚合物薄膜之机械方向的复折射率沿该薄膜之厚度方向平均化的值，△n(TD)Ave代表将聚乙烯醇系聚合物薄膜之宽度方向之复折射率沿该薄膜之厚度方向平均化的值〕。 |
| 地址 |
日本 |
