| 发明名称 |
用于改变平台温度的装置及方法 |
| 摘要 |
揭露一种用于改变平台温度的技术。在一个特定示例实施例中，此技术可以被实现为用于改变平台温度的装置。此装置包括平台以及一个或者多个活动热垫，此一个或者多个活动热垫包括一个或者多个热流体通道，此热流体通道承载配置为影响平台温度的热流体。 |
| 申请公布号 |
TWI466213 |
申请公布日期 |
2014.12.21 |
| 申请号 |
TW098118417 |
申请日期 |
2009.06.03 |
| 申请人 |
瓦里安半导体设备公司 美国 |
发明人 |
费许 罗杰Ｂ;巴思凯 萨缪尔Ｍ;后登 史考特Ｃ;瑞福 亚瑟Ｐ;恩尔拉 史蒂芬Ｍ |
| 分类号 |
H01L21/67;H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/67 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种用于改变平台温度的装置，包括：平台，于离子植入期间支撑晶圆；以及一个或者多个活动热垫，可缩回以远离所述平台，所述一个或者多个活动热垫包括一个或者多个热流体通道，所述热流体通道承载被配置为降低所述平台的温度的冷却剂，使得所述平台的所述温度于所述离子植入期间为0℃以下。 |
| 地址 |
美国 |
