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<p>정렬 마크를 생성하는 방법에서, 산화층 및 희생층이 후퇴부들을 포함하도록 처리된다. 후퇴부들은 충전재로 채워진다. 후퇴부들을 채우는 동안, 희생층 상에 충전재의 층이 형성된다. 충전재의 층은 화학-기계적 연마에 의해 제거된다. 희생층은 후퇴부들이 채워지고 충전재의 층을 제거하는 동안 산화층을 보호한다. 그 후, 희생층이 에칭에 의해 제거된다. 이는 돌출부들을 갖는 스크래칭되지 않은 산화층을 제공한다. 돌출부들을 갖는 산화층은 전도층으로 덮이고, 관련 돌출부들을 형성하기 위해 산화층을 통해 돌출부들이 펀칭(punch)한다. 관련 돌출부들은 정렬 마크를 형성한다.</p> |
