Verfahren zur Erzeugung eines Metalloxidfilms und Metalloxidfilm

摘要

Diese Erfindung gibt ein Verfahren zur Erzeugung eines Metalloxidfilms an, das einen Metalloxidfilm mit niedrigem Widerstand bei niedrigen Kosten erzeugen kann. Bei dem Verfahren zur Erzeugung eines Metalloxidfilms gemäß dieser Erfindung wird eine Lösung (7), umfassend ein Alkylmetall, auf ein Substrat (1) gesprüht, das unter Nicht-Vakuum angeordnet ist. Wenn die Lösung (7) gesprüht wird, wird eine Dotiermittellösung (5), die ein Dotiermittel, umfassend eine anorganische Verbindung, enthält, auf das Substrat (1) gesprüht.