发明名称 |
Hochspannungskaskadendiode mit Hemt und einer monotlithisch integrierten Halbleiterdiode |
摘要 |
<p>Eine Ausführungsform einer Kaskadendiode mit einer Durchbruchspannung über 300 V weist einen HEMT und eine Si-Schottky-Diode auf. Der HEMT weist ein Gate, einen Drain, eine Source und eine zweidimensionale Elektronengas-Kanalregion auf, die die Source und den Drain verbindet und die von dem Gate gesteuert wird. Der HEMT weist eine Durchbruchspannung von über 300 V auf. Die Si-Schottky-Diode ist monolithisch mit dem HEMT integriert. Die Si-Schottky-Diode weist eine Kathode, die mit der Source des HEMT verbunden ist und eine Anode, die mit dem Gate des HEMT verbunden ist, auf. Die Si-Schottky-Diode weist eine Durchbruchspannung von weniger als 300 V und eine Durchlassspannung von weniger als oder gleich 0,4 V auf. Die Anode der Si-Schottky-Diode bildet die Anode der Kaskadendiode, und der Drain des HEMT bildet die Kathode der Kaskadendiode.</p> |
申请公布号 |
DE102014108628(A1) |
申请公布日期 |
2014.12.18 |
申请号 |
DE201410108628 |
申请日期 |
2014.06.18 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG |
发明人 |
HAEBERLEN, OLIVER;OSTERMAIER, CLEMENS;PRECHTL, GERHARD |
分类号 |
H01L29/861;H01L29/778;H01L29/872 |
主分类号 |
H01L29/861 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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