Verfahren zur Herstellung eines Metalloxidfilms und Metalloxidfilm

摘要

Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines Metalloxidfilms bereit, welches in der Lage ist, einen Metalloxidfilm mit geringem Widerstand bei niedrigen Kosten herzustellen. In dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung eines Metalloxidfilms wird eine Lösung (7), die Zink enthält, auf ein Substrat (1) gesprüht, das unter Nicht-Vakuum platziert ist, und dann wird eine Dotierlösung (5), die eine Dotiersubstanz enthält, auf das Substrat (1) gesprüht. Danach wird ein abgeschiedener Metalloxidfilm (10) einer widerstandsverringernden Behandlung unterzogen. Die molare Konzentration der zu dem Substrat (1) zugeführten Dotiersubstanz in Bezug auf die molare Konzentration des zu dem Substrat (1) zugeführten Zinks ist nicht kleiner als ein vorbestimmter Wert.