发明名称 SPEICHERBAUELEMENT und VORRICHTUNGEN UNTER VERWENDUNG VON FINFETs
摘要 Speicherbauelement, umfassend: ein FinFET-Auswahlbauelement mit einem Steg (40) und ein Speicherelement (20), wobei das FinFET-Auswahlbauelement ein Kontaktelement (50) aufweist, das räumlich zwischen einer oberen Oberfläche des Stegs (40) und dem Speicherelement (20) angeordnet und elektrisch leitfähig an den Steg (40) gekoppelt ist, wobei das Speicherelement ein NVM-Speicherelement ist, und wobei das Kontaktelement (50) teilweise den Steg umhüllt, und wobei das Speicherelement (20) ausgewählt ist aus einer Gruppe von Speicherelementen bestehend aus PCRAM-, MRAM-, CBRAM- und FeRAM-Speicherelement.
申请公布号 DE102008000319(B4) 申请公布日期 2014.12.18
申请号 DE20081000319 申请日期 2008.02.15
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 KAKOSCHKE, RONALD;SCHRÜFER, KLAUS
分类号 H01L27/105;H01L27/115;H01L27/22;H01L27/24 主分类号 H01L27/105
代理机构 代理人
主权项
地址