发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE AND SUBSTRATE SUPPORTING PART
摘要 <p>기판의 이면으로의 이물질의 부착 및 기판의 옆으로 미끄러짐을 억제한다. 기판을 처리하는 처리실 내에 설치되며 기판을 지지하는 기판 지지부는, 상기 기판의 연측을 상기 기판을 둘러싸도록 끊김없이 하방으로부터 지지하는 볼록 영역과, 상기 볼록 영역에 의해 지지된 상기 기판에 접촉하지 않도록 상기 볼록 영역의 내측에 설치된 오목 영역과, 상기 오목 영역에 점 형상으로 설치되어 상기 볼록 영역보다도 낮게 형성되고 상기 기판의 휨을 보정하고 지지하도록 구성된 보조 볼록 영역을 상면에 포함하고, 또한 상기 오목 영역 내에 연통하고 상기 기판과 상기 기판 지지부와의 사이의 기체를 상기 오목 영역 측으로부터 상기 기판의 이면과 대향하는 방향으로 유출시키는 유로를 포함하도록 구성된다.</p>
申请公布号 KR101474339(B1) 申请公布日期 2014.12.18
申请号 KR20120014757 申请日期 2012.02.14
申请人 发明人
分类号 H01L21/683 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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