发明名称 按摩足浴盆
摘要 本实用新型公开一种按摩足浴盆,所述按摩足浴盆包括盆座和设置在盆座内部的盆体;所述盆体内部设有可容纳脚的盆腔,在盆腔内的盆体底部设有呈匹配对称设置的左按摩区和右按摩区,左按摩区内和右按摩区内分别设有足底按摩装置;所述足底按摩装置包括按摩转盘和偏心轴固按摩头;所述按摩转盘为圆形,所述偏心轴固按摩头固结于按摩转盘的顶面上,并且可以绕按摩转盘的圆心转动;所述按摩转盘的盘面上设置有至少两组沿按摩转盘周向方向均匀设置的按摩滚珠组。针对不同体质人群需求而设计,使用时可以因人而异,可以起到调整阴阳,平衡气血,疏通经脉的作用,达到强身的目的。
申请公布号 CN204016100U 申请公布日期 2014.12.17
申请号 CN201420205237.9 申请日期 2014.04.24
申请人 吴树功 发明人 吴树功
分类号 A47K3/022(2006.01)I;A61H15/00(2006.01)I 主分类号 A47K3/022(2006.01)I
代理机构 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人 张文祎
主权项 一种按摩足浴盆,其特征在于:所述按摩足浴盆包括盆座和设置在盆座内部的盆体; 所述盆体内部设有可容纳脚的盆腔,所述盆腔包括呈匹配对称设置的左按摩区和右按摩区,左按摩区内的盆体内侧底面上和右按摩区内的盆体内侧底面上分别设有足底按摩装置; 所述足底按摩装置包括按摩转盘和偏心轴固按摩头; 所述按摩转盘为圆形;所述偏心轴固按摩头固结于按摩转盘的盘面上,且所述偏心轴固按摩头随按摩转盘一起绕按摩转盘的圆心竖向轴线转动; 所述按摩转盘的盘面上还设置有至少两组沿按摩转盘周向方向均匀设置的按摩滚珠组; 所述按摩滚珠组包括至少两个沿着按摩转盘径向方向排列设置的按摩滚珠; 所述按摩转盘可沿顺时针方向旋转和逆时针方向旋转。 
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