平面光学元件面形的检测方法

摘要

一种用于反射率>13%的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括：斐索干涉仪、两块4%反射率的平面标准镜、一块4%～13%反射率的平面标准镜、一块透射率介于0.30～0.36之间的反射式或吸收式的衰减片。该检测方法首先对4%反射率、4%反射率和4%～13%反射率的三块标准镜进行绝对检验，得到4%～13%反射率平面标准镜的绝对面形；其次在干涉腔内插入衰减片，对4%～13%反射率的平面标准镜进行相对检验，计算出干涉仪系统误差；最后对待测元件进行相对检验，扣除系统误差，得到待测元件的绝对面形分布。本发明对反射率>13%的平面光学元件面形检测具有较高的检测精度。

主权项

一种用于反射率>13％的平面光学元件面形的检测方法，该检测方法所使用工具包括斐索干涉仪(1‑1)，反射率4％的第一标准镜(2)和第二标准镜，反射率的选择范围为4％～13％的第三标准镜(4)，一块透射率介于0.30～0.36之间的衰减片(5)，其特征在于：该方法包括以下步骤： ①利用所述的斐索干涉仪(1‑1)，采用现有的绝对检验法对第一标准镜(2)、第二标准镜和第三标准镜(4)进行绝对检验，得到第三标准镜(4)的绝对面形分布C(x,y)并存储； ②测量斐索干涉仪的系统误差：将第一标准镜(2)装夹在所述的斐索干涉仪(1‑1)的参考镜调整架(1‑2)上，将所述的第三标准镜(4)装夹在斐索干涉仪(1‑1)的待测镜调整架(1‑3)上，在第一标准镜(2)和第三标准镜(4)之间插入所述的衰减片(5)，该衰减片(5)与所述的第一标准镜(2)的倾角<1°，利用所述的斐索干涉仪(1‑1)测量第三标准镜(4)的波面数据W₀(x,y)并存储，所述的斐索干涉仪(1‑1)按下列公式计算出斐索干涉仪(1‑1)的系统误差W_{sys_err}： W_{sys_err}=W₀(x，y)‑C(x，y)；③将待测镜调整架(1‑3)上的第三标准镜(4)更换为待测平面光学元件(6)，利用斐索干涉仪(1‑1)测量待测平面光学元件(6)波面数据W₁(x,y)并存储； ④所述的斐索干涉仪(1‑1)利用下列公式计算出待测平面光学元件(6)的绝对面形分布W_test(x,y)： W_test(x,y)＝W₁(x,y)‑W_{sys_err}＝W₁(x,y)‑[W₀(x,y)‑C(x,y)]。