发明名称 在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法
摘要 本发明涉及在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法。在磁控溅射真空反应室中设置两个纯石墨靶和一个钛靶;在氩气环境下,在钛合金基底表面先溅射沉积纯钛结合层,接着溅射沉积类石墨碳氮膜层,再溅射沉积富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层;其中类石墨碳氮膜层和富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层为非晶碳氮双层薄膜;所述非晶碳氮双层薄膜硬度为29~34GPa。本发明显著提高了薄膜与钛合金基底的结合力,同时,含有较低的内应力,且厚度可控,各层的厚度可由溅射时间来控制。在真空中进行摩擦试验,非晶碳氮双层薄膜具有极低的摩擦系数和磨损率,显示出优异的减摩与耐磨性;可用于钛合金材料的表面防护改性,减少摩擦磨损,大幅度提高钛合金材料的使用寿命。
申请公布号 CN104213088A 申请公布日期 2014.12.17
申请号 CN201410383041.3 申请日期 2014.08.06
申请人 中国电子科技集团公司第三十八研究所 发明人 刘东光
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 合肥金安专利事务所 34114 代理人 金惠贞
主权项 在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法,其特征在于具体操作方法如下:在磁控溅射真空反应室中设置两个纯石墨靶和一个钛靶;在氩气环境下,在钛合金基底表面先溅射沉积纯钛结合层,接着通入氮气,溅射沉积类石墨碳氮膜层,再溅射沉积富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层;其中类石墨膜层和富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层为非晶碳氮双层薄膜;所述非晶碳氮双层薄膜硬度为29~34GPa。
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