发明名称 |
在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法 |
摘要 |
本发明涉及在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法。在磁控溅射真空反应室中设置两个纯石墨靶和一个钛靶;在氩气环境下,在钛合金基底表面先溅射沉积纯钛结合层,接着溅射沉积类石墨碳氮膜层,再溅射沉积富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层;其中类石墨碳氮膜层和富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层为非晶碳氮双层薄膜;所述非晶碳氮双层薄膜硬度为29~34GPa。本发明显著提高了薄膜与钛合金基底的结合力,同时,含有较低的内应力,且厚度可控,各层的厚度可由溅射时间来控制。在真空中进行摩擦试验,非晶碳氮双层薄膜具有极低的摩擦系数和磨损率,显示出优异的减摩与耐磨性;可用于钛合金材料的表面防护改性,减少摩擦磨损,大幅度提高钛合金材料的使用寿命。 |
申请公布号 |
CN104213088A |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201410383041.3 |
申请日期 |
2014.08.06 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第三十八研究所 |
发明人 |
刘东光 |
分类号 |
C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/35(2006.01)I |
代理机构 |
合肥金安专利事务所 34114 |
代理人 |
金惠贞 |
主权项 |
在钛合金材料表面制备耐磨非晶碳氮双层薄膜的方法,其特征在于具体操作方法如下:在磁控溅射真空反应室中设置两个纯石墨靶和一个钛靶;在氩气环境下,在钛合金基底表面先溅射沉积纯钛结合层,接着通入氮气,溅射沉积类石墨碳氮膜层,再溅射沉积富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层;其中类石墨膜层和富<i>sp</i><sup>3</sup>碳氮膜层为非晶碳氮双层薄膜;所述非晶碳氮双层薄膜硬度为29~34GPa。 |
地址 |
230088 安徽省合肥市高新区香樟大道199号 |