发明名称 |
一种上电极及应用该上电极的等离子体加工设备 |
摘要 |
本发明提供一种上电极及应用该上电极的等离子体加工设备,所述上电极包括上极板、与所述上极板相对的下极板以及连接板,所述上极板、下极板和连接板形成空腔,在所述下极板上设置有贯穿其厚度的气孔,其中,在所述上极板和下极板之间设有导体环,所述导体环将所述空腔分成沿其径向方向分布的多个环形子腔室,导体环上有连通各环形子腔室的径向通孔,而且在所述上极板上与每个所述环形子腔室对应的位置设有一个或多个进气通道。该上电极不仅能够提高反应腔室内的工艺气体的分布均匀性,而且能够提高射频电源馈入反应腔室的能量分布均匀性,从而提高等离子体加工设备的加工均匀性。 |
申请公布号 |
CN103031543B |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201110303332.3 |
申请日期 |
2011.09.30 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
王锴;韦刚 |
分类号 |
C23C16/505(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/505(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张天舒;陈源 |
主权项 |
一种上电极,包括上极板、与所述上极板相对的下极板以及连接板,所述上极板、下极板和连接板形成空腔,在所述下极板上设置有贯穿其厚度的气孔,其特征在于,在所述上极板和下极板之间设有导体环,所述导体环分别与上极板和下极板连接,且将所述空腔分成沿其径向方向分布的多个环形子腔室,导体环上有连通各环形子腔室的径向通孔,而且在所述上极板上与每个所述环形子腔室对应的位置设有一个或多个进气通道。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 |