发明名称 抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统
摘要 一种抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统,修整器包括:研磨颗粒,其形状规则且为多面体;基体,具有研磨面,研磨面的表面粗糙度大小使得研磨面凹凸不平,研磨颗粒固结在研磨面上,至少部分研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内;至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面。通过加大研磨面的表面粗糙度、并选用形状规则且为多面体的研磨颗粒,使得研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内,且凹部内至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面,在对抛光垫进行修整时研磨颗粒的棱角朝向抛光垫,改善了研磨颗粒的切削研磨效果;另外,由于研磨颗粒的形状是规则的,故研磨颗粒的抗断裂强度高,可以大幅减少硅片因金刚石研磨颗粒破碎而被划伤的情形发生。
申请公布号 CN104209863A 申请公布日期 2014.12.17
申请号 CN201310217161.1 申请日期 2013.06.03
申请人 宁波江丰电子材料股份有限公司 发明人 姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽
分类号 B24B53/017(2012.01)I;B24B53/12(2006.01)I;B24B37/10(2012.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 张亚利;骆苏华
主权项 一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:研磨颗粒,所述研磨颗粒形状规则且为多面体;基体,具有研磨面,所述研磨面的表面粗糙度大小使得所述研磨面凹凸不平,所述研磨颗粒固结在所述研磨面上,至少部分所述研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内;凹部内至少部分研磨颗粒的棱角背向所述研磨面。
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