发明名称 |
阶梯栅介质双层石墨烯场效应晶体管及其制备方法 |
摘要 |
一种阶梯栅介质双层石墨烯场效应晶体管,包括一个底栅电极、一个底栅介质层、一个双层石墨烯有源区、一个金属源电极、一个金属漏电极、一个阶梯顶栅介质层和一个顶栅电极;所述底栅介质层位于底栅电极的上方,双层石墨烯有源区位于底栅介质层的上方,金属源电极和金属漏电极分别在双层石墨烯有源区的两端,且同时覆盖底栅介质层和部分双层石墨烯有源区,阶梯顶栅介质层覆盖在金属源电极、金属漏电极和两电极之间的石墨烯上,顶栅电极只部分覆盖在阶梯顶栅介质层的上方,与金属源电极和金属漏电极边缘的距离相等。本发明通过引入阶梯顶栅介质层,有效减小关态时源区和栅控沟道之间的隧穿窗口,从而获得较小的关态电流,改善了器件的开关比。 |
申请公布号 |
CN104218089A |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201410458985.2 |
申请日期 |
2014.09.10 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
黄如;王佳鑫;黄芊芊;吴春蕾;朱昊;赵阳 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 |
代理人 |
朱红涛 |
主权项 |
一种阶梯栅介质双层石墨烯场效应晶体管,其特征是,包括一个底栅电极(1)、一个底栅介质层(2)、一个双层石墨烯有源区(5)、一个金属源电极(6)、一个金属漏电极(7)、一个阶梯顶栅介质层(8)和一个顶栅电极(9);所述底栅介质层(2)位于底栅电极(1)的上方,双层石墨烯有源区(5)位于底栅介质层(2)的上方,金属源电极(6)和金属漏电极(7)分别在双层石墨烯有源区(5)的两端,且同时覆盖底栅介质层(2)和部分双层石墨烯有源区(5),阶梯顶栅介质层(8)覆盖在金属源电极(6)、金属漏电极(7)和两电极之间的石墨烯上,顶栅电极(9)只部分覆盖在阶梯顶栅介质层(8)的上方,与金属源电极(6)和金属漏电极(7)边缘的距离相等,距离为100nm~1um;对于双层石墨烯有源区(5),被顶栅电极(9)覆盖的区域定义为沟道,而未被顶栅电极(9)覆盖的区域中,金属源电极(6)一侧的区域定义为源区,金属漏电极(7)一侧的区域定义为漏区。 |
地址 |
100871 北京市海淀区颐和园路5号 |