一种改进的设备研磨剂

摘要

一种改进的设备研磨剂，由以下重量份数的原料制成：水杨酸苯酯3-6份，五水硅酸钠4-9份，乙二胺四亚甲基膦酸3-5份，纳米碳酸钙6-11份，烷基醚磺酸镁4-8份，表面活性剂2-6份，聚磷酸盐3-7份，失水山梨醇脂肪酸酯5-8份，二乙二醇乙醚1-3份，二硫化钼1-3份，二甲苯磷酸钠3-6份。本发明的有益效果是，本发明的研磨剂，研磨均匀，同时对设备的影响小，且不会对人体造成伤害。

主权项

一种改进的设备研磨剂，其特征在于：由以下重量份数的原料制成：水杨酸苯酯3‑6份，五水硅酸钠4‑9份，乙二胺四亚甲基膦酸3‑5份，纳米碳酸钙6‑11份，烷基醚磺酸镁4‑8份，表面活性剂2‑6份，聚磷酸盐3‑7份，失水山梨醇脂肪酸酯5‑8份，二乙二醇乙醚1‑3份，二硫化钼1‑3份，二甲苯磷酸钠3‑6份。