模板、模板的表面处理方法、模板的表面处理装置和图案形成方法

摘要

本发明涉及模板、模板的表面处理方法、模板的表面处理装置和图案形成方法。具体地，涉及一种包括具有凹凸图案的转写面的模板。所述模板被构造成在树脂的表面中形成反映所述凹凸图案的结构。所述树脂通过将处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液充填入所述凹凸图案的凹部并使用光来固化所述光固化性树脂液而形成。所述模板包括基材和表面层。所述基材包括具有凹凸的主表面。所述表面层覆盖所述基材的凹凸并用于形成反映所述凹凸的结构的凹凸图案。所述表面层与处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液之间的接触角不大于30度。

主权项

包括具有凹凸图案的转写面的模板，所述模板被构造成在树脂的表面中形成反映所述凹凸图案的结构，所述树脂通过将处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液充填入所述凹凸图案的凹部并使用光来固化所述光固化性树脂液而形成，所述模板包括：包括具有凹凸的主表面的基材，所述基材对于用来固化所述光固化性树脂液的光是透过性的；和覆盖所述基材的凹凸的表面层，所述表面层用于形成反映所述凹凸的结构的凹凸图案，所述表面层与处于在光固化性树脂液用光固化之前的状态下的光固化性树脂液之间的接触角不大于30度；其中，所述表面层是通过化合物的缩合反应而将所述化合物结合到所述基材而形成的层，所述化合物由R_n‑Si‑X_4‑n代表，其中n是不小于1且不大于3的整数，X是烷氧基、乙酰氧基或卤原子，R是甲基；所述表面层是通过将化合物结合到所述基材而形成的层，所述化合物由R₃‑Si‑NH‑Si‑R′₃代表，其中R′是甲基且R是甲基；或所述表面层是通过将化合物结合到所述基材而形成的层，所述化合物由R₃‑Si‑NR′₂代表，其中R′是甲基且R是甲基。