发明名称 |
投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机 |
摘要 |
提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜组20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率,所以作为投影光学系统20的全体系统,在纵横方向有不同的焦点距离,纵横方向的放大倍率也变为不同,液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可不同。也就是说,通过本投影光学系统20,可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时,光圈70和光调制元件侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p和距离p’满足预定的条件式,所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。 |
申请公布号 |
CN102902046B |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201210265523.X |
申请日期 |
2012.07.27 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
大谷信;守国荣时 |
分类号 |
G02B13/12(2006.01)I;G02B27/18(2006.01)I;G03B21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B13/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
陈海红;段承恩 |
主权项 |
一种投影光学系统,其特征在于,在被投影面上放大投影图像时,使光调制元件的图像的横纵比与在上述被投影面上投影的图像的横纵比成为不同,上述投影光学系统包括:光圈,限制光束的通过;光调制元件侧透镜组,配置在从上述光调制元件到上述光圈之间,包含在上述光调制元件的纵方向和横方向有不同的放大率并且在光路上可以进退的调整光学要素;上述光圈,与上述光调制元件侧透镜组的上述调整光学要素的进退工作联动,在光轴方向的不同的位置限制光束的通过。 |
地址 |
日本东京都 |