| 发明名称 | 用于处理载体的方法和载体 | ||
| 摘要 | 一种用于处理载体的方法可以包括：在载体上和载体中之中的至少一个形成至少一个凹进结构，并对所述至少一个凹进结构进行退火，使得由所述至少一个凹进结构的材料形成至少一个中空室，其中，所述至少一个中空室可以形成光学对准结构。 | ||
| 申请公布号 | CN104217983A | 申请公布日期 | 2014.12.17 |
| 申请号 | CN201410232303.6 | 申请日期 | 2014.05.29 |
| 申请人 | 英飞凌科技德累斯顿有限责任公司 | 发明人 | D.布迈斯特;A.格赖纳;T.豪克;D.凯泽;N.莫尔加纳;A.西雷;C.韦特齐希 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/68(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 马丽娜;胡莉莉 |
| 主权项 | 一种用于处理载体的方法，该方法包括：在载体上和载体中之中的至少一个形成至少一个凹进结构；对所述至少一个凹进结构进行退火，使得由所述至少一个凹进结构的材料形成至少一个中空室，其中，所述至少一个中空室形成光学对准结构。 | ||
| 地址 | 德国德累斯顿 | ||