发明名称 |
检查设备和方法 |
摘要 |
一种光谱散射仪检测从目标光栅上的照射光斑衍射的零阶或高阶辐射。设备形成并且检测了零阶(反射)辐射的光谱,并且单独地形成并检测高阶衍射辐射的光谱。使用对称相位光栅形成每个光谱,以便于形成并且检测对称光谱对。成对的光谱可以平均以获得具有减小的焦点敏感性的单个光谱。比较两个光谱可以产生用于改进后续光刻步骤中的高度测量的信息。目标光栅被倾斜定向以使得零阶和高阶辐射在不同平面中从光斑发出。两个散射仪可以同时操作,从而从不同倾斜方向照射目标。径向透射滤光片减小了光斑中的旁波瓣并且减小了产品交叉串扰。 |
申请公布号 |
CN104220932A |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201380019174.6 |
申请日期 |
2013.01.31 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
A·登博夫 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01N21/956(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华 |
主权项 |
一种检查设备,包括光谱散射仪,所述光谱散射仪具有:照射光学器件,用于将具有入射角的宽带辐射引导在目标结构上的光斑处,所使用的所述目标结构包括周期性光栅;零阶检测光学器件,用于接收从所述目标反射的辐射,以及用于形成并且检测反射辐射的光谱;以及高阶检测光学器件,用于接收由所述目标结构中的所述周期性光栅以一个或多个高阶衍射的辐射,以及用于形成并且检测所接收的衍射辐射的光谱。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |