| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该阵列基板包括：衬底基板及位于衬底基板上的包括源极和漏极的图形，还包括：位于衬底基板与包括源极和漏极的图形之间的隧道结结构，隧道结结构形成阵列基板的有源层。上述阵列基板及其制作方法、显示装置具有较高的载流子迁移率，TFT的开关速度更快；TFT的阈值电压不易发生漂移，具有较高的均匀性；每个像素能够使用更少的TFT，像素的开关速度更快；且制作工艺更简单易行。 | ||
| 申请公布号 | CN104218043A | 申请公布日期 | 2014.12.17 |
| 申请号 | CN201410453736.4 | 申请日期 | 2014.09.05 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 张金中 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括：衬底基板及位于所述衬底基板上的包括源极和漏极的图形，其特征在于，还包括：位于所述衬底基板与所述包括源极和漏极的图形之间的隧道结结构，所述隧道结结构形成所述阵列基板的有源层；所述隧道结结构包括：依次层叠的第一磁性层、绝缘层和第二磁性层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||