发明名称 | 一种45度平面镜的面形检测装置 | ||
摘要 | 一种45度平面镜的面形检测装置,包括:斐索干涉仪、第一标准镜、第二标准镜、45度平面镜、拼接位移台、二维调整架、倾斜二维调整架。本实用新型在被测45度平面镜上方加入反射镜,使光原路返回,对45度平面镜进行子孔径拼接干涉测量,采用变权重法对子孔径面形数据进行拼接,得到全口径面形。本实用新型具有:1,操作简易,45度平面镜镜面不易变形,测量精度高;2,子孔径面形数据采用变权重数据融合拼接,精度高;3,通过改变第一标准镜和第二标准镜的反射率,既可以测量未镀膜面,也可以测量高反面,均有较高的干涉对比度的优点。 | ||
申请公布号 | CN204027527U | 申请公布日期 | 2014.12.17 |
申请号 | CN201420481780.1 | 申请日期 | 2014.08.26 |
申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 李永;唐锋;王向朝;李杰;吴飞斌 |
分类号 | G01B11/24(2006.01)I | 主分类号 | G01B11/24(2006.01)I |
代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人 | 张泽纯 |
主权项 | 一种45度平面镜的面形检测装置,其特征在于,包括:斐索干涉仪(1)、放置在该斐索干涉仪(1)的参考镜调整架(1‑1)上的第一标准镜(2)、拼接位移台(5)、固定在该拼接位移台(5)上的二维调整架(6)、装夹在该二维调整架(6)上的45度平面镜(4)、倾斜二维调整架(7),以及装夹在该倾斜二维调整架(7)上的第二标准镜(3);所述的45度平面镜(4)与所述的斐索干涉仪(1)的发射光呈45度,所述的第二标准镜(3)位于该45度平面镜(4)的上方、且与该45度平面镜(4)的一反射光呈45度。 | ||
地址 | 201800 上海市嘉定区800-211邮政信箱 |