分散式静电夹盘的冷却

摘要

本发明的实施例包括在等离子体处理过程中用以冷却支撑工件的基座的设备、系统和方法。基座的实施例包括：底座，该工件是将被配置于该底座上方；数个喷嘴，用以从供应充气增压部供应流体来撞击于该底座的表面上；以及数个返回管道，用以将供应的流体送回到返回充气增压部。将由该数个喷嘴供应的流体可以在该数个喷嘴和该底座之间的空间内被喷射成一或更多个淹没于周围流体中的射流，或被喷射成从周围流体浮现的喷雾，以撞击于该底座的该表面上。

主权项

一种在等离子体处理过程中支撑工件的基座，该基座包含：底座，该工件是将被配置于该底座上方；数个喷嘴，用以从供应充气增压部供应流体来非平行地撞击于该底座的表面上；以及数个返回管道，用以将供应的流体送回到返回充气增压部。