发明名称 抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统
摘要 一种抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统,所述修整器包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,研磨颗粒固结在研磨面上,研磨面包括:相连的边缘研磨面和研磨面,边缘研磨面环绕在研磨面的周围;研磨面为平面,且研磨面高于边缘研磨面。在对抛光垫进行修整时,由于研磨面的研磨面高于边缘研磨面,使得边缘研磨面上的研磨颗粒高于研磨面上的研磨颗粒,故当抛光垫修整器进入抛光垫的压入深度较小时,大部分边缘研磨面上的研磨颗粒不会进行研磨,因而减少了位于边缘位置的研磨颗粒的使用频率,降低了位于边缘位置的研磨颗粒的剥落可能;另外,还降低了位于边缘位置的研磨颗粒与抛光垫边缘发生碰撞的可能。
申请公布号 CN104209864A 申请公布日期 2014.12.17
申请号 CN201310217195.0 申请日期 2013.06.03
申请人 宁波江丰电子材料股份有限公司 发明人 姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽
分类号 B24B53/017(2012.01)I;B24B53/12(2006.01)I 主分类号 B24B53/017(2012.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 张亚利;骆苏华
主权项 一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,所述研磨颗粒固结在所述研磨面上,所述研磨面包括:相连的边缘研磨面和中央研磨面,所述边缘研磨面环绕在中央研磨面的周围;所述中央研磨面为平面,且所述中央研磨面高于边缘研磨面。
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