发明名称 |
抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统 |
摘要 |
一种抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统,所述修整器包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,研磨颗粒固结在研磨面上,研磨面包括:相连的边缘研磨面和研磨面,边缘研磨面环绕在研磨面的周围;研磨面为平面,且研磨面高于边缘研磨面。在对抛光垫进行修整时,由于研磨面的研磨面高于边缘研磨面,使得边缘研磨面上的研磨颗粒高于研磨面上的研磨颗粒,故当抛光垫修整器进入抛光垫的压入深度较小时,大部分边缘研磨面上的研磨颗粒不会进行研磨,因而减少了位于边缘位置的研磨颗粒的使用频率,降低了位于边缘位置的研磨颗粒的剥落可能;另外,还降低了位于边缘位置的研磨颗粒与抛光垫边缘发生碰撞的可能。 |
申请公布号 |
CN104209864A |
申请公布日期 |
2014.12.17 |
申请号 |
CN201310217195.0 |
申请日期 |
2013.06.03 |
申请人 |
宁波江丰电子材料股份有限公司 |
发明人 |
姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 |
分类号 |
B24B53/017(2012.01)I;B24B53/12(2006.01)I |
主分类号 |
B24B53/017(2012.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
张亚利;骆苏华 |
主权项 |
一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:研磨颗粒;基体,具有研磨面,所述研磨颗粒固结在所述研磨面上,所述研磨面包括:相连的边缘研磨面和中央研磨面,所述边缘研磨面环绕在中央研磨面的周围;所述中央研磨面为平面,且所述中央研磨面高于边缘研磨面。 |
地址 |
315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号 |