使用处理腔室中之调谐电极以调谐电浆分布之设备及方法;APPARATUS AND METHOD FOR TUNING A PLASMA PROFILE USING A TUNING ELECTRODE IN A PROCESSING CHAMBER

摘要

本发明之实施例系关于用于在基板之电浆处理期间提高沈积速率及改良电浆分布之设备。根据实施例，该设备包括一调谐电极，该调谐电极安置在一基板支撑底座中且电气耦接至一可变电容器。电容经控制以控制耦接至该调谐电极之RF及所得电浆。越过基板之电浆分布以及所得沈积速率及沈积膜厚度藉由调整在该调谐电极处之电容及阻抗来相应地控制。