| 摘要 |
本发明提供一种能够提高成膜材料的材料利用率之成膜装置。本发明的成膜装置(1)，具备有调整来自蒸发源(2)的成膜材料粒子(Mb)的扩散宽度之扩散宽度调整部(50)。该扩散宽度调整部(50)，系能够使与短边方向(D1)正交之长边方向(D2)上之扩散宽度，大于短边方向(D1)上之扩散宽度。亦即，扩散宽度调整部(50)，能够使短边方向(D1)上之扩散宽度小于长边方向(D2)上之扩散宽度。因此，能够缩小短边方向(D1)上之扩散宽度，而得以抑制附着于在短边方向(D1)上相对向之真空腔室(10)的侧壁(10i)及侧壁(10h)。藉此，能够使附着于真空腔室(10)的壁面上之成膜材料粒子(Mb)减少，而能够提高成膜材料(Ma)的材料利用率。 |
