发明名称 PHOTOSENSITIVE GRAFT POLYMER, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME
摘要 <p>본 발명에 관련된 감광성 그래프트 폴리머는 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트 등의 탄소수 10∼20 의 가교 고리형 탄화수소기를 갖는 중합성 모노머 30 몰%∼80 몰% 와, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 가교 고리형 탄화수소기를 갖지 않는 중합성 모노머 20 몰%∼70 몰% 를 공중합하여 얻어지는 매크로모노머 (a) 를 가지 폴리머로 하는 것을 특징으로 하는 것이다. 탄소수 10∼20 의 가교 고리형 탄화수소기를 갖는 중합성 모노머는 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 하기 식 (1) 및 (2) 로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다. [화학식 1](식 중, R은 수소 또는 메틸기를 나타낸다)</p>
申请公布号 KR101473511(B1) 申请公布日期 2014.12.16
申请号 KR20107009457 申请日期 2008.08.25
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/033;G03F7/038 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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