用于改良晶圆温度均匀性和制程可重复性的基座支撑轴;SUSCEPTOR SUPPORT SHAFT FOR IMPROVED WAFER TEMPERATURE UNIFORMITY AND PROCESS REPEATABILITY

摘要

本发明之实施例大体系关于基座支撑轴及含有该等基座支撑轴之处理腔室。基座支撑轴支撑该基座支撑轴上之基座，该基座又在处理期间支撑基板。基座支撑轴藉由为导向基座及/或基板之高温计聚焦束提供一致路径来降低基座及/或基板之温度量测的变化，即使在旋转基座支撑轴时。基座支撑轴亦具有增加处理腔室之温度斜升及斜降速率之相对较低热质量。