发明名称 处理装置及处理方法
摘要 根据一实施形态,本发明之处理装置包含:冲洗部,其使用冲洗液对存在于处理物之正面之处理液进行冲洗;及乾燥部,其使上述处理物之正面乾燥;且上述乾燥部包含:腔室;喷嘴,其设置于上述腔室之内部且朝向上述处理物之正面喷出气体;气流控制部,其设置于上述冲洗部与设置有上述喷嘴之上述腔室之内部空间之间;及复数个搬送辊,其等沿着上述处理物之搬送方向而排列。而且,上述气流控制部包含设置于上述处理物之搬入侧之第1开口部、及设置于上述处理物之搬出侧之第2开口部,且上述第2开口部之开口面积小于上述第1开口部之开口面积。
申请公布号 TW201448040 申请公布日期 2014.12.16
申请号 TW103107343 申请日期 2014.03.04
申请人 东芝股份有限公司 发明人 佐佐木真一;添田胜之;西部幸伸
分类号 H01L21/3105(2006.01) 主分类号 H01L21/3105(2006.01)
代理机构 代理人 <name>陈长文</name>
主权项
地址 日本