基板处理方法、电脑记忆媒体及基板处理系统;SUBSTRATE TREATMENT METHOD, COMPUTER STORAGE MEDIUM AND SUBSTRATE TREATMENT SYSTEM

摘要

本发明提供一种基板处理方法、电脑记忆媒体及基板处理系统，该基板处理方法包含如下步骤：光阻膜形成步骤，于基板上形成光阻膜；曝光步骤，将该光阻膜曝光为既定图案；金属处理步骤，使处理剂进入该光阻膜内在曝光步骤曝光之曝光部中，并藉由处理剂使金属浸润于曝光部中；以及光阻膜去除步骤，去除该光阻膜中未在曝光步骤曝光之未曝光部，于基板上形成光阻图案。