用于严峻环境之钝化层及其制造方法;PASSIVATION LAYER FOR HARSH ENVIRONMENTS AND METHODS OF FABRICATION THEREOF

摘要

本发明提供一种制造钝化层之方法及一种用于电子装置之钝化层。该钝化层包括至少一个钝化膜层及至少一个奈米粒子层。第一膜层由诸如氧化铝(Al2O3)之绝缘基质形成，且诸如铂奈米粒子层之第一层贵金属奈米粒子层沈积于该第一膜层上。额外层由交替之膜层及奈米粒子层形成。该所得钝化层提供薄及稳固之高膜品质钝化层以保护电子装置、组件及系统免受破坏性的环境条件。