发明名称 基板液体处理装置及气流异常检测方法;SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE AND FLOW ABNORMALITY DETECTION METHOD
摘要 本发明旨在提供一种基板液体处理装置及气流异常检测方法,可检测自液体承接杯体之上部开口部流入液体承接杯体内,于液体承接杯体内流下而朝杯体排气路排出之气流中发生异常。 其中基板液体处理装置包含:基板固持部(10),固持基板(W)并使其旋转;处理液喷嘴(51~53),对基板供给处理液;筒状之液体承接杯体(20、30),包围基板之周围,承接并回收自基板飞散之处理液,于上部具有开口部;壳体(60),收纳基板固持部及液体承接杯体;杯体排气路(36),为使液体承接杯体之内部之氛围排气,连接该液体承接杯体;杯体排气路压力感测器(92),检测杯体排气路内之压力;壳体压力感测器(91),检测液体承接杯体之外侧之壳体内之压力;及控制部(100),壳体压力感测器之检测值(P1)与杯体排气路压力感测器之检测值(Pc)之差在既定之判定基准值以下时,发出通知此事之警报。
申请公布号 TW201447972 申请公布日期 2014.12.16
申请号 TW103107703 申请日期 2014.03.06
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 伊藤规宏
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 <name>周良谋</name><name>周良吉</name>
主权项
地址 日本