发明名称 |
基板液体处理装置及气流异常检测方法;SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE AND FLOW ABNORMALITY DETECTION METHOD |
摘要 |
本发明旨在提供一种基板液体处理装置及气流异常检测方法,可检测自液体承接杯体之上部开口部流入液体承接杯体内,于液体承接杯体内流下而朝杯体排气路排出之气流中发生异常。 其中基板液体处理装置包含:基板固持部(10),固持基板(W)并使其旋转;处理液喷嘴(51~53),对基板供给处理液;筒状之液体承接杯体(20、30),包围基板之周围,承接并回收自基板飞散之处理液,于上部具有开口部;壳体(60),收纳基板固持部及液体承接杯体;杯体排气路(36),为使液体承接杯体之内部之氛围排气,连接该液体承接杯体;杯体排气路压力感测器(92),检测杯体排气路内之压力;壳体压力感测器(91),检测液体承接杯体之外侧之壳体内之压力;及控制部(100),壳体压力感测器之检测值(P1)与杯体排气路压力感测器之检测值(Pc)之差在既定之判定基准值以下时,发出通知此事之警报。 |
申请公布号 |
TW201447972 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103107703 |
申请日期 |
2014.03.06 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 |
发明人 |
伊藤规宏 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>周良谋</name><name>周良吉</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |