化合物、微影用下层膜形成材料、微影用下层膜及图型之形成方法;COMPOUND, MATERIAL FOR FORMING LOWER LAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, LOWER LAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, AND PATTERN-FORMING METHOD

摘要

本发明之微影用下层膜形成材料系含有具有以下述一般式(1)表示之结构的化合物。;(式(1)中，X系各自独立为氧原子或硫原子，R 1 为单键或碳数1~30之2n价烃基，该烃基可具有环式烃基、双键、杂原子或碳数6~30之芳香族基，R 2 为碳数1~10之直链状、分支状或环状之烷基、碳数6~10之芳基、碳数2~10之烯基或羟基，m为0~3之整数，n为1~4之整数，p为0或1，q为1~100之整数)。