发明名称 |
具入瞳负后焦之投影物镜及投影曝光装置;PROJECTION EXPOSURE APPARATUS WITH NEGATIVE BACK FOCUS OF THE ENTRY PUPIL |
摘要 |
本发明系关于一种投影物镜,其包含:其中形成一物体场的一物体平面(20,100,300,2103),一入瞳(VE),一反射入瞳平面(103)中的一反射入瞳(RE),可藉由映射该物体平面处之该入瞳(VE)获得,一影像平面(21,102,302,2102),一光轴(HA),至少一第一镜(S1)及一第二镜(S2),其中该投影物镜系具有一入瞳负后焦,而其中从该物体场点产生及从该物体平面至该影像平面跨越该物镜之主射线(CR,CRP),系与该光轴(HA)交叉于至少一交叉点(CROSS),其中所有交叉点(CROSS,CROSS1,CROSS2)的几何位置均位于该影像平面(21,102,302,2102)及该反射入瞳平面(103)之间。 |
申请公布号 |
TW201447362 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103125259 |
申请日期 |
2007.03.20 |
申请人 |
卡尔蔡司SMT有限公司 |
发明人 |
曼 汉斯 约尔根;辛格尔 沃夫冈 |
分类号 |
G02B13/16(2006.01);G03B27/52(2006.01);G03B27/70(2006.01);G02B17/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B13/16(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>李宗德</name> |
主权项 |
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地址 |
德国 |