| 发明名称 |
具有使用半色调相移光罩之多波长的曝光方法;EXPOSURE METHOD WITH MULTI-WAVELENGTH USING HALFTONE PHASE SHIFT MASK |
| 摘要 |
本发明提供一种使用半色调相移光罩之多波长的曝光方法。本发明的使用半色调相移光罩之多波长的曝光方法，包括以下步骤：调节形成于半色调相移光罩的相移光罩的相位、光源的强度、形成于半色调相移光罩的相移光罩的透射率及光刻胶的吸收率中的一个以上，以使通过下述数学式1及数学式2运算出的多波长的相位平均值成为180°或预设值。;[数学式2] Wi线=Ii线*Ti线*Ai线Wh线=Ih线*Th线*Ah线Wg线=Ig线*Tg线*Ag线 |
| 申请公布号 |
TW201447504 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
| 申请号 |
TW103116162 |
申请日期 |
2014.05.06 |
| 申请人 |
ＰＫＬ股份有限公司 |
发明人 |
许翼范;崔相洙 |
| 分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
<name>康清敬</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
南韩 |
