发明名称 |
图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件;METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE |
摘要 |
一种图案形成方法,其依序包含:将感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤,感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有由于酸的作用而对包含1种以上有机溶剂的显影液的溶解度减少的树脂、藉由照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、及溶剂;经由液浸液对感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤;对感光化射线性或感放射线性膜进行加热的步骤;及藉由包含有机溶剂的显影液对感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤;另外,于膜形成步骤之后且曝光步骤之前、及/或曝光步骤之后且加热步骤之前包含对感光化射线性或感放射线性膜进行清洗的步骤。 |
申请公布号 |
TW201447484 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103113886 |
申请日期 |
2014.04.16 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
中村贵之;山中司 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/039(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>叶璟宗</name><name>郑婷文</name><name>詹富闵</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |