发明名称 蚀刻液
摘要 本发明系提供一种对矽系材料、及Al、W、Ti、TiN及TaN而言不会造成伤害,而可选择性地去除镍铂合金系金属之蚀刻液。藉由本发明之揭示,系提供一种蚀刻液,其系含有羧酸、具有氧化性之卤化物及水,前述羧酸浓度为75质量%以上99质量%以下,且具有氧化性之卤化物之卤素原子于蚀刻液中的浓度为1.4~55mmol/kg。
申请公布号 TW201447042 申请公布日期 2014.12.16
申请号 TW103102761 申请日期 2014.01.24
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 齐藤康夫;佐藤冬树
分类号 C23F1/02(2006.01);C23F1/30(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/465(2006.01) 主分类号 C23F1/02(2006.01)
代理机构 代理人 <name>林志刚</name>
主权项
地址 日本