发明名称 |
附载体铜箔、使用其之覆铜积层板、印刷配线板、电子机器及印刷配线板之制造方法 |
摘要 |
提供一种适于形成窄间距之附载体铜箔。一种附载体铜箔,其依序具备作为支持体的载体、中间层、极薄铜层,该极薄铜层表面之至少一面以非接触式粗糙度计进行测定而得之Rz在0.5μm以下。 |
申请公布号 |
TW201446495 |
申请公布日期 |
2014.12.16 |
申请号 |
TW103107351 |
申请日期 |
2014.03.04 |
申请人 |
JX日鑛日石金属股份有限公司; METALS CORPORATION |
发明人 |
坂口和彦;佐佐木伸一 |
分类号 |
B32B15/08(2006.01);C25D7/06(2006.01);H05K1/09(2006.01) |
主分类号 |
B32B15/08(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>阎启泰</name><name>林景郁</name> |
主权项 |
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地址 |
日本 |