发明名称 附载体铜箔、使用其之覆铜积层板、印刷配线板、电子机器及印刷配线板之制造方法
摘要 提供一种适于形成窄间距之附载体铜箔。一种附载体铜箔,其依序具备作为支持体的载体、中间层、极薄铜层,该极薄铜层表面之至少一面以非接触式粗糙度计进行测定而得之Rz在0.5μm以下。
申请公布号 TW201446495 申请公布日期 2014.12.16
申请号 TW103107351 申请日期 2014.03.04
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司; METALS CORPORATION 发明人 坂口和彦;佐佐木伸一
分类号 B32B15/08(2006.01);C25D7/06(2006.01);H05K1/09(2006.01) 主分类号 B32B15/08(2006.01)
代理机构 代理人 <name>阎启泰</name><name>林景郁</name>
主权项
地址 日本