发明名称 FILM FORMING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>처리 용기 내에서 회전 테이블을 회전시킴으로써, 당해 회전 테이블 상의 기판에 복수 종류의 반응 가스를 순서대로 공급하여, 반응 생성물의 층을 적층하여 박막을 형성하는 성막 장치에 있어서, 상기 회전 테이블의 회전 방향으로 서로 이격되어서 설치된 복수의 처리 영역과, 이들 복수의 처리 영역에 서로 상이한 종류의 반응 가스를 각각 공급하기 위한 복수의 반응 가스 공급 수단과, 상기 복수의 처리 영역의 분위기를 서로 분리하기 위하여 상기 회전 방향에 있어서 이들 처리 영역 사이에 위치하고, 분리 가스를 공급하는 분리 가스 공급 수단이 설치된 분리 영역과, 상기 복수의 처리 영역의 분위기를 각각 배기하기 위하여 처리 용기에 설치된 복수의 배기구와, 상기 복수의 처리 영역에 각각 개구되는 개구부와, 각 개구부로부터 대응하는 배기구에 처리 영역의 분위기를 안내하는 배기로를, 배기되는 각 처리 영역의 분위기끼리가 혼합되지 않도록 처리 영역마다 독립하여 형성하는 배기로 형성 부재를 구비하고, 상기 회전 방향에 있어서의 상기 개구부의 위치를 배기로 형성 부재에 의해 변경할 수 있는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.</p>
申请公布号 KR101472179(B1) 申请公布日期 2014.12.12
申请号 KR20120079383 申请日期 2012.07.20
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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