| 摘要 |
<p>플라즈마 프로세싱 챔버는 챔버 내에서 실질적으로 수평 방위로 기판을 지지하도록 정의된 상부면을 갖는 기판 지지체를 포함한다. 플라즈마 프로세싱 챔버는 또한, 기판 지지체 주변 외측의 챔버 내에 배치된 다수의 텔레스코픽 부재들을 포함한다. 다수의 텔레스코픽 부재들은 또한, 기판 지지체의 상부면의 중앙에 대하여 동심형 방식으로 배치된다. 다수의 텔레스코픽 부재들 각각은, 기판 지지체의 상부면 위의 개방 체적을 조정할 수 있도록 실질적으로 수직 방향으로 독립적으로 이동되도록 정의되고, 이에 의해 기판 지지체의 상부면 위의 개방 체적 내의 플라즈마 상태를 조정할 수 있다.</p> |
