发明名称 电化学处理之表面修饰装置
摘要 本发明提供了一种电化学处理之表面修饰装置,包含:一溶液槽、一阴极端、以及一阳极端。溶液槽容置一酸性溶液,且酸性溶液中具有一第一价金属离子;在阴极端该第一价金属离子部份还原成一第二价金属离子,且第一价金属离子之价数大于该第二价金属离子之价数;该阳极端,设置有一导电氧化物,且第二价金属离子由阴极端移动至阳极端以形成一金属氧化物;其中,导电氧化物之沉积与被蚀刻同时在阳极表面进行。
申请公布号 TWI464308 申请公布日期 2014.12.11
申请号 TW101134076 申请日期 2012.09.18
申请人 国立清华大学 新竹市光复路2段101号 发明人 李冠廷;吕世源
分类号 C25F7/00;C25D11/00 主分类号 C25F7/00
代理机构 代理人 叶信金 新竹市湳雅街311巷14号2楼
主权项 一种利用电化学处理之表面修饰装置,包含:一溶液槽,容置一酸性溶液,且该酸性溶液中具有一第一价金属离子;一阴极端,该第一价金属离子部份还原成一第二价金属离子,且该第一价金属离子之价数大于该第二价金属离子之价数;以及一阳极端,设置有一导电氧化物,且该第二价金属离子由该阴极端移动至该阳极端以形成一金属氧化物;其中,该阳极端之该导电氧化物被蚀刻且该金属氧化物沉积于该导电氧化物上;以及,该电化学处理之表面修饰装置系被控制于温度60度。
地址 新竹市光复路2段101号