发明名称 |
发光二极体 |
摘要 |
本发明涉及一种发光二极体,其包括:一种发光二极体,其包括:一基底、一第一半导体层、一活性层、一第二半导体层、一第一电极以及一第二电极,所述第一半导体层、活性层以及第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置,所述第一电极与所述第一半导体层电连接,所述第二电极与所述第二半导体层电连接,所述发光二极体进一步包括:一第一光学对称层设置于第二半导体层远离活性层的表面;一金属电浆产生层设置于所述第一光学对称层远离活性层的表面;一第二光学对称层设置于所述金属电浆产生层远离活性层的表面;所述第二光学对称层的等效折射率n1,与所述基底、第一半导体层、一活性层、一第二半导体层以及第二光学对称层的等效折射率n2的差值n大于等于0小于等于0.5,其中n=|n1-n2|。 |
申请公布号 |
TWI464904 |
申请公布日期 |
2014.12.11 |
申请号 |
TW101123111 |
申请日期 |
2012.06.28 |
申请人 |
鸿海精密工业股份有限公司 新北市土城区自由街2号 |
发明人 |
朱钧;张淏酥;朱振东;李群庆;金国藩;范守善 |
分类号 |
H01L33/02;H01L33/12;H01L33/22;H01L33/32;B82Y20/00 |
主分类号 |
H01L33/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发光二极体,其包括:一基底、一第一半导体层、一活性层、一第二半导体层、一第一电极以及一第二电极,所述第一半导体层、活性层以及第二半导体层依次层叠设置于所述基底的一表面,且所述第一半导体层靠近基底设置,所述第一电极与所述第一半导体层电连接,所述第二电极与所述第二半导体层电连接,其中:所述发光二极体进一步包括:一第一光学对称层设置于第二半导体层远离活性层的表面,一金属电浆产生层设置于所述第一光学对称层远离活性层的表面,一第二光学对称层设置于所述金属电浆产生层远离活性层的表面,所述第二光学对称层的等效折射率n1,与所述基底、第一半导体层、一活性层、一第二半导体层以及第二光学对称层的等效折射率n2的差值n大于等于0小于等于0.5,其中n=|n1-n2|。 |
地址 |
新北市土城区自由街2号 |