发明名称 |
发光二极体元件及其制造方法 |
摘要 |
一种发光二极体元件之制造方法,包括提供一垂直结构型发光二极体元件,其具有设置于一基板上之一氮化镓层。该氮化镓层系经过处理。该处理包括于该氮化镓层上施行一离子布植程序及施行一巨粗糙化处理。该离子布植程序可于该氮化镓层上形成一经粗糙化表面区。于一实施例中,该离子布植程序系于低于约摄氏25度之一温度下施行。于另一实施例中,于施行该离子布植程序时,该基板系处于低于约摄氏0度之一温度。 |
申请公布号 |
TWI464912 |
申请公布日期 |
2014.12.11 |
申请号 |
TW101111001 |
申请日期 |
2012.03.29 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |
发明人 |
吴欣贤;陈其贤;张钧琳;萧景文;徐光宏 |
分类号 |
H01L33/22 |
主分类号 |
H01L33/22 |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼 |
主权项 |
一种发光二极体元件之制造方法,包括:提供一垂直结构型发光二极体元件,其具有设置于一基板上之一氮化镓层,其中该氮化镓层至少为一P型层与一N型层其中之一;以及处理该氮化镓层,其中该处理包括了于该氮化镓层上施行一离子布植程序及施行一巨粗糙化处理。 |
地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |