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发明名称
发光二极体
摘要
本发明揭示一种直接在一矽基板上形成碲化锌(ZnTe)或二氧化钛(TiO2)的缓冲层。然后选择性地形成一氮化铝层,当成该缓冲层的第二层。然后在该缓冲层上形成一氮化镓样板层。在该样板层之上形成用于一氮化镓型蓝光LED的磊晶LED结构,藉此形成一第一多层结构。然后,将一导电载体贴合至该第一多层结构。接着移除该矽基板与该缓冲层,藉此形成一第二多层结构。然后在该第二多层结构上形成电极,并且将该结构切割形成蓝光LED装置。
申请公布号
TWI464909
申请公布日期
2014.12.11
申请号
TW101131497
申请日期
2012.08.30
申请人
东芝股份有限公司 日本
发明人
陈振
分类号
H01L33/12
主分类号
H01L33/12
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种LED,包括:一矽基板;一缓冲层,其直接位于该矽基板之上且包含一氮化铝(AlN)层和一形成于该矽基板与该AlN层间的碲化锌(ZnTe)层;一氮化镓(GaN)样板层,其位于该缓冲层上;及一磊晶发光二极体(LED)结构,其位于该GaN样板层上;其中该缓冲层位于该矽基板与该磊晶LED结构之间,其中该磊晶LED结构包含一主动层位于一p型层与一n型层之间,并且其中该主动层包含镓与氮。
地址
日本
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