发明名称 超音波洗净装置及超音波洗净方法
摘要 提供一种超音波洗净装置及超音波洗净方法,系可抑制对被洗净基板造成损伤,此外可对电子产业界等所使用之高精密度的基板等进行高清净度的洗净。;以位于从超音波振动子的振动面延伸的垂线到液面为止所形成的区域(超音波照射区域)外之洗净液的液面下附近的方式保持被洗净物,藉由超音波使表面张力波在洗净液的表面激起,不直接对被洗净物照射超音波,藉由表面张力波所形成的音压将被洗净物之微粒子污染物剥离,以抑制对被洗净基板造成损伤。
申请公布号 TWI464019 申请公布日期 2014.12.11
申请号 TW101117482 申请日期 2012.05.16
申请人 华祥股份有限公司 日本 发明人 铃木一成
分类号 B08B3/12 主分类号 B08B3/12
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 一种超音波洗净装置,其特征为具有:一洗净槽,系贮存一洗净液;一超音波振动子,系产生一超音波振动;一振动板,受前述超音波振动子驱动而将前述超音波振动子的前述超音波振动加诸在位于前述振动板上的前述洗净液而形成一由前述振动板向前述洗净液液面垂直延伸至前述洗净液液面的超音波照射区域;以及一被洗净物,浸泡于前述洗净液并远离前述超音波照射区域设置以进行洗净。
地址 日本