发明名称 用于将离子布植至一工件的离子布植系统、磁性过滤一离子束之方法以及用于降低于离子布植系统的粒子污染之方法
摘要 提供一种于离子布植至工件之期间以磁性过滤一离子束之系统及方法,其中,自一离子源发射离子且加速该等离子使其远离该离子源以形成一离子束。离子束由一质量分析器所质量分析,其中,离子是选择的。一旦该离子束为质量分析,离子束接着经由一减速器所减速,且进而磁性过滤减速之下游的离子束。磁性过滤由一四极磁性能量过滤器所提供,其中,形成一磁场,用于截取离开该减速器之离子束的离子以选择性过滤不合意的离子与快速的中性粒子。
申请公布号 TWI464775 申请公布日期 2014.12.11
申请号 TW098121321 申请日期 2009.06.25
申请人 艾克塞利斯科技公司 美国 发明人 芮汀 杰佛瑞;法雷 马文;梵德伯格 宝;史密克 希欧多尔;坂濑贵夫
分类号 H01J37/317;H01L21/265 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种用于将离子布植至一工件的离子布植系统,该种离子布植系统包含:一末端站,其中,该工件通常位在于该末端站;一用于发射离子的离子源;一质量分析器,安装以质量分析该等离子且界定一离子束;一位在该质量分析器之下游以减速该离子束的减速器;及一四极磁性能量过滤器装置,定位在该减速器之下游并在该工件之前,其中,该四极磁性能量过滤器过滤自该离子束之中性离子。
地址 美国